荷兰光刻机制造商ASML首席执行官Christophe Fouquet 5月20日在比利时安特卫普举行的技术活动上表示，针对中国市场的出口管控收紧将加速中国自主开发替代光刻机设备的步伐 [1, 2, 3]。
Fouquet比喻称，“如果我将你放到沙漠里，告诉你今后再也没有食物来源了——你需要多久才开垦出自己的菜园？这是存亡的问题。”他用此形容中国因出口限制被迫自力更生的处境 [1]。
目前ASML仍向中国销售基于2015年技术的浸没式深紫外（DUV）光刻机，这些设备支持第八代以下的芯片制造技术 [1, 3]。但中国从荷兰进口光刻机的数量今年第一季度同比下降24.3%，显示这些限制已有显著影响 [1, 3]。
美国国会今年4月提出《MATCH法案》，要求包括荷兰和日本在内的盟友遵守美方管制，禁止向中国出口极紫外（EUV）及浸没式DUV光刻机，旨在阻止中国获得先进芯片制造设备 [1, 2, 3]。该法案由美国内存芯片厂商美光推动，目标锁定中国长鑫存储、长江存储和中芯国际等企业 [2, 3]。荷兰政府对此持反对态度 [1]。
受出口管制影响，ASML预测2026年在中国市场的销售比例将降至约20%，相比2025年的33%大幅下降 [1, 3]。
此外，2026年3月中国全国两会期间，九位半导体产业领袖联合呼吁，在“十五五”规划（2026-2030）期间推动国产光刻机的研发，打造“中国版ASML”，以突破美国的技术封锁 [1, 3]。
Fouquet在讲话中强调，短期看出口收紧将压制ASML对华销售，但长期则可能挑战其市场垄断地位，因为中国将被迫加快设备国产化开发以应对制裁 [1, 2, 3]。
下一步，相关各方将继续围绕美国《MATCH法案》的具体执行和荷兰政府立场进行博弈，同时中国自主光刻机项目也进入关键发展窗口期。
