前SK海力士一名员工因在2022年向一家中国公司泄露CMOS图像传感器（CIS）半导体制造技术，被判处18个月监禁，案件于今日由首尔高等法院维持原判 [1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9]。

该员工曾任职于SK海力士中国办公室，利用职务便利下载公司内部机密文件，随后打印或拍摄这些资料。他更是在向中方公司提交的简历中隐含部分机密信息，从而实现泄密 [1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9]。

法院未公开具体涉事的中国公司名称。被告承认指控，SK海力士也成功追回了大部分被盗取的机密资料 [1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9]。涉密技术涉及手机摄像头及笔记本电脑广泛使用的CMOS图像传感器，这些技术凝结了SK海力士多年研发投入，被视为公司的核心商业秘密 [1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9]。

被告曾被控同时泄露下一代存储器技术“混合集成键合”（Hybrid Bonding），但因该技术当时未被韩国政府正式认定为“尖端技术”，相关指控被驳回 [4, 9]。此外，涉案员工在犯罪前 reportedly 收到华为子公司海思半导体的工作邀约 [4, 6]。

法庭依据韩国《产业技术保护法》《不正当竞争防止法》和背信罪判处被告，判决结果显示，放宽刑罚或将削弱企业研发积极性，助长海外竞争对手通过挖角盗取技术的行为 [4, 6, 9]。

此案判决的维持标志着韩国司法对技术泄密行为的严厉态度，相关处罚将继续执行。